財(cái)聯(lián)社11月19日電，據(jù)洪田股份官微消息，近日，洪田股份旗下洪鐳光學(xué)自主研發(fā)的應(yīng)用于半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域的直寫光刻機(jī)與TGV玻璃基板直寫光刻機(jī)順利下線，完成打包裝運(yùn)并發(fā)往訂單需求客戶。此次下線并交付的掩模版直寫光刻機(jī)，是一臺(tái)最小線寬線距解析能力為2.5μm，對(duì)位精度為±2μm的高精度的激光直寫光刻設(shè)備，可滿足客戶L/S為3μm的掩模版產(chǎn)品的量產(chǎn)光刻需求。同時(shí)下線并交付客戶的另一臺(tái)直寫光刻機(jī)，是應(yīng)用于TGV玻璃基板領(lǐng)域，最小線寬線距解析能力為6μm，對(duì)位精度為±4μm，可滿足510mm*515mm尺寸TGV玻璃基板生產(chǎn)需求的直寫光刻設(shè)備。